日本外相林芳正於4月1日至2日訪問中國。林芳正訪華之際,日本政府宣布限制23種半導體製造設備出口。在此之前,中日關係已經因中共以涉嫌間諜活動為由拘留一名日本製藥公司的駐華日籍僱員而出現緊張。
林芳正是三年多來首次對中國進行訪問的日本外相。在中日關係持續緊張的大背景下,中國官方媒體4月2日發文稱,林芳正訪華被「寄予了很多期待」。
就在林芳正訪華前一天,3月31日,日本政府在證實林芳正訪華的同時宣布,日本將從今年7月起對六大類23種晶片製造設備的出口加以限制,涉及晶片的清潔、沉積、光刻、蝕刻等,包括尼康、東京電子在內的十幾家日本企業可能會受到影響。這些技術領先的半導體設備製造商需要獲得日本政府的許可才能出口尖端設備。
日本經濟產業省大臣西村康稔在做上述宣布時表示,這些措施並非針對具體的國家,只強調設備製造商如果要向任何地區出口設備,都需要事先獲得出口許可。他還表示,日本做出這一決定的目的是為了阻止這些先進技術被用於軍事領域。
就在日本宣布出口限制措施的同一天,中共官方也聲稱,林芳正訪華是應中共國務委員兼外長秦剛的邀請,中方很「重視」。中共還稱中日兩國為重要近鄰,「保持兩國關係健康穩定發展,符合兩國和地區共同利益」。
在此之前的3月27日,中共外交部發言人毛寧稱,中共國家安全部門以涉嫌從事間諜活動為由,對一名在華日本公民採取了刑事強制措施。在回答「日方呼籲儘快釋放被拘捕的日本男子」的有關提問時,毛寧聲稱,能不能釋放此人「要依法辦事」。
這名在北京被捕的男子是日本安斯泰來製藥集團(Astellas Pharma)的員工,擔任該企業中國分公司的幹部。該製藥集團的總部在日本東京,安斯泰來(中國)是日本在華投資最大的製藥企業之一,總部設在北京。
分析:日本發布出口限制措施是勢在必行
旅美政經分析人士陸遠行認為,日本在中共拘捕了日本公民後、在日本外相訪華前發布出口限制措施,是表明日方不向中共示弱的態度和立場。
「這個時機恰到好處,有人認為這是巧合,但並非完全如此。」陸遠行4月2日對大紀元記者表示,「中共抓了日本公民,日本如果示弱,日本外相完全可以先去中國把人救出來後再擇機公布出口限制措施,但是它沒有這麼做。我認為這不是巧合,日本就是要表明態度和立場——它不會向中共示弱,我認為這是它針對中共的一種姿態。」
陸遠行還表示,中共這個政權只會耍流氓。「它不是正常的思維,它做的任何事都只會起到適得其反的效果。」他說,中共的做法只會讓國際社會看到它的不可靠,對其更加警惕,並把日本完全推到美國的陣營。
中國問題專家、旅美時政評論人士王赫也在4月2日對大紀元記者表示,日本此次宣布限制23種半導體製造設備出口是勢在必行。
王赫表示,中日在2021年就已經撕破臉。2021年3月,美日外長、防長「2+2」會晤聲明,中共行為與現行國際秩序不符,對國際社會構成挑戰,對台灣、南海、新疆等問題表示關切,遭到時任中共外交部發言人趙立堅破口大罵。2022年8月,中共搞「圍台軍演」,發射的導彈有5枚落在日本專屬經濟區內,對日本刺激極大。
「在這樣的形勢下,2022年岸田文雄上台後,採取了對抗中共的姿態。」王赫說,「日本通過了新版《國家安全保障戰略》等三份安保政策文件,計劃到2027年國防開支提高到日本國內生產總值(GDP)的2%,整個態勢都是對抗中共,遏制其軍事擴張步伐。如何實現遏制?就是要在技術上遏制中共、跟中共脫鉤,這也是為了配合美國,與美國保持一致。」
荷蘭限制光刻機出口當天 日本光刻膠對中國斷供
日本、美國和荷蘭共同掌握著中共製造尖端晶片所需的關鍵設備。美國拜登政府於去年10月宣布對中共祭出晶片禁令,以限制中共獲得先進晶片用於製造武器、侵犯人權和提高其軍事後勤的速度及準確性。美國敦促日本、荷蘭等同盟效仿。
今年1月,美國、日本及荷蘭在華盛頓達成協議,同意擴大針對中共的晶片出口管制措施,日本和荷蘭自行安排落實管制內容。
在跟美國政府達成協議一個多月後,今年3月8日,為保護國家安全,荷蘭宣布正式加入美國在半導體行業對中共的限制行列,對包括最先進的深紫外光刻機(DUV)在內的特定半導體製造設備實施新的出口管制。
荷蘭對外貿易和發展合作大臣施賴內馬赫(Liesje Schreinemacher)在致荷蘭議員的一封信中表示:「鑒於技術發展和地緣政治背景,政府已經得出結論,為了(國家間)安全,有必要擴大現有的特定半導體生產設備的出口管制。」
就在荷蘭作做上述宣布的同一天,中國業內傳出消息說,日本某光刻膠大廠已經執行美國「實體清單」的限制要求,對中國某存儲晶圓廠斷供了KrF光刻膠。
有業內人士向中國科技媒體芯智訊證實,此消息屬實,但並未透露更多細節。
光刻膠是半導體晶片製造過程中所必須的關鍵材料。芯智訊表示,中國KrF光刻膠自給率不足5%,而高端的ArF光刻膠則主要依賴於進口,「是國內半導體的卡脖子技術之一」。
去年5月,日本光刻膠巨頭JSR首席執行官埃里克·約翰遜(Eric Johnson)曾表示,儘管中國在努力推動晶片自給自足,但中國半導體產業必要的基礎設施不足,很難掌握基於極紫外(EUV)光刻的複雜晶片製造技術,發展先進製程的晶片製造技術將非常困難。@
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